第821章 前沿无法承受的怒火！（第3/4页）

“纵览全球光刻机市场，65纳米这个级别的硅工艺依旧是主流。”

“没错，目前我们总成生产的65纳米光刻机确实使用不是浸没式，依然使用的是干式光刻，ArF（准分子激光）干式光刻再往40/45纳米效果会开始大打折扣；

从干式光刻到浸没式光刻需要光刻胶等材料的突破，也是事实；

但仍然不意味着65纳米光刻退出了主流行业，从销量分布来看，65纳米占比超过70%。”

“……”

看完这个简短的媒体采访，方年抿抿嘴：“媒体的提问都特别尖锐啊。”

一旁陆薇语叹气道：“一些三流媒体哪有这专业素养，这么直指本质？”

方年无奈道：“利益动人心。

而且，是问题也是现实困境，材料不突破，想要突破更高精度的自主光刻，几乎没有可能性。”

“……”

严格来说，庐州前沿晶圆试验线汇总报告上表明，45纳米还是勉强可以用干式光刻。

但28纳米必然需要上浸没式。

所以，方年才会在上月底从国外前沿天使全球转入200亿人民币后，分拨那么多钱给饕餮实验室。

光刻机很重要，材料也相当重要，其中光刻胶的重要性甚至仅低于光刻机。

浸没式光刻胶是必须要突破的领域。

这玩意现在也大多数是依赖于国外进口。

但越往高精度走，进口阻力越大，甚至根本买不到。

半导体行业所需的材料五花八门，当然不仅仅是饕餮一个小小的实验室能包揽，饕餮也是起主导作用。

实际转化商业成果部分是交由既有公司，部分由前沿生态来协调。

“……”

新的一周。

有小道消息说，有国产晶圆代工厂向ASML提交了购买ArF i 40纳米光刻机。

小道消息往往最容易被传得满天飞。

所以很快就被热炒。

很自然的，不少狗犬、狗犬媒体有意把矛头指向了前沿。

“前沿下大力气委托上微电量产65纳米光刻机，但是受众用户已经没了，卖给谁呢？”

“就算量产成功，一家新的光刻机生产厂商，凭什么跟ASML、尼康、佳能这种老牌厂商比竞争力呢？稳定性就是个大问题。”

“……”

然后就有一条更离谱的消息冒了出来。

“我觉得，是前沿老总在西沙那边贪图享乐，不顾让近海生态遭受毁灭级破坏也要当岛主，遭到了主流社会的不齿与抵制，这就是报应！”

“……”

这消息离谱到吃瓜网民们都出离了愤怒。

“来个大佬，人肉他！这人真的是自带阴间滤镜！”

“真的受不了了！国产的名声被败坏都是有这帮内贼狗犬！”

“……”

而在这样的消息甚嚣尘上的当天。

即美东时间29号上午10点。

白头鹰对外更新了公告。

公布了最新的MEU名单。

这次的名单中同样只有一行英文：

QianYan Corporation

接下来是bis更新了名单。

先是E L这个列表中更新了一行英文：

QianYan Corporation

然后是U L这个列表中更新了一长串英文。

涉及到十数家单位和主体。

里面理所当然的包括了上微电。

还有好多家建筑公司。

这些都是目前在扩建永兴机场的承建单位。

哪怕这会国内都晚上九点多了，国内公共网络空间上依旧有一些媒体很快发表了各类解读。

“这是对前沿的警告！这也是对前沿老总的警告。”

“当地时间最新消息：前沿必须停止其错误的行为！”

“……”

看完消息的方年觉得有点意思。

其实bis的E L是个非常宽泛的指代列表。

是能够更灵活的针对所有事物的东西。